G系列、DG系列超纯氢气纯化设备

型号	原料气	纯化后杂质指标
7H-DG	≥99.999%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb，颗粒≤0.01μm
6H-DG	≥99.99%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm
7H-G	≥99.999%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb，颗粒≤0.01μm
6H-G	≥99.999%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm

说明：

①稀有气体不计算为杂质；

②再生氢气消耗量为产品气的5—10%；

③激活氩气指标要求：压力：≥0.2Mpa、纯度≥99.999%、露点≤-50℃；

④常用规格有：5、10、20、35、50、75、100、150、200、300、400Nm³/h等。

设备特点

•抗波动能力强，原料气杂质短时间波动至设计值200%不影响产气纯度；

•抗意外能力强，短时间断电、断水不影响产气纯度；

•具备完善的报警联锁系统，可实现无人值守全自动运行；

•按国家标准进行防爆处理，不能放在防爆箱中的采用充氮气保护；

 

 

应用领域

单晶硅的冶炼、拉制，晶片外延保护气体； 科研院所，大专院校；

电子、微电子行业的研制与生产； 超纯气体分析；

精密不锈钢加工、热处理保护气； 混合气、标准气体的配制;