稀有气体纯化设备

型号	原料气	纯化后杂质指标
7R-D	≥99.999%	O2、H2O、CO2≤10ppb，颗粒≤0.01μm
6R-D	≥99.99%	O2、H2O、CO2，颗粒≤0.1μm
7R-G	≥99.999%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤10ppb，颗粒≤0.01μm
6R-G	≥99.998%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm
7R-DG	≥99.999%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤10ppb，颗粒≤0.01μm
6R-DG	≥99.99%	O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2、H2≤0.1ppm，颗粒≤0.1μm

说明：

①D工序再生氢气消耗量为产品气的1%左右，指标要求：压力：≥0.2Mpa、纯度≥99.999%、露点≤-50℃、不含油类及硫氯砷等化合物；

②对氦气、氖气、氪气、氙气等贵重气体为了减少损耗可采用特殊工艺及措施；

③常用规格有：5、10、20、35、50、75、100Nm³/h等。

设备特点

•抗波动能力强，抗意外能力强，短时间断电、断水不影响产气纯度；

•具备完善的报警联锁系统，可实现无人值守全自动运行；

•可高压纯化，避免膜压缩机的污染。

应用领域

单晶硅的冶炼、拉制，晶片外延保护气体； 碳纤维的生产过程；

大规模集成电路的研制与生产； 科研院所，大专院校；

混合气、标准气体的配制，超纯气体分析；