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G系列、DG系列超纯氢气纯化设备

型号原料气纯化后杂质指标7H-DG≥99.999%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb,颗粒≤0.01μm6H-DG≥99.99%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm,颗粒≤0.1μm7H-G≥99.999%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb,颗粒≤0.01μm6H-G≥99.999%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm,颗粒≤0.1μm说明:①稀有气体不计算为杂质;②再生

产品详情



型号原料气纯化后杂质指标
7H-DG≥99.999%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb,颗粒≤0.01μm
6H-DG≥99.99%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm,颗粒≤0.1μm
7H-G≥99.999%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤10ppb,颗粒≤0.01μm
6H-G≥99.999%O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2≤0.1ppm,颗粒≤0.1μm

说明:

①稀有气体不计算为杂质;

②再生氢气消耗量为产品气的5—10%;

③激活氩气指标要求:压力:≥0.2Mpa、纯度≥99.999%、露点≤-50℃;

④常用规格有:5、10、20、35、50、75、100、150、200、300、400Nm3/h等。

设备特点

•抗波动能力强,原料气杂质短时间波动至设计值200%不影响产气纯度;

•抗意外能力强,短时间断电、断水不影响产气纯度;

•具备完善的报警联锁系统,可实现无人值守全自动运行;

•按国家标准进行防爆处理,不能放在防爆箱中的采用充氮气保护;


G系列、DG系列超纯氢气纯化设备-768x496-1.jpg

应用领域

单晶硅的冶炼、拉制,晶片外延保护气体; 科研院所,大专院校;

电子、微电子行业的研制与生产; 超纯气体分析;

精密不锈钢加工、热处理保护气; 混合气、标准气体的配制;


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采购:G系列、DG系列超纯氢气纯化设备

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